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纳米胶体磨

简要描述:

SGN纳米胶体磨是普通的胶体磨的速度的4-5倍以上,可达14000rpm,分散乳化均质研磨效果非常好。根据一些行业的特殊要求, SGN 在GM2000系列胶体磨的基础上又开发了一款GMS2000超高速胶体磨,转子的线速度可以达到40M/S。研磨分散效果更好,研磨粒径分布更小。

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纳米胶体磨组成是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

 

SGN在GM2000系列胶体磨的基础上又开发了一款GMS2000超高速纳米胶体磨,转子的线速度可以达到40M/S。研磨分散效果更好,研磨粒径分布更小。作用一般来说要强于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。
 

GMS2000速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

     

三级错齿结构的研磨转子,配合精密的定子腔。此款纳米高速胶体磨比普通胶体磨速度达到3倍以上,zui大的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。

 

SGN选型表:

 

 

超高速胶体磨

 

流量*

 

输出

 

线速度

 

功率

 

入口/出口连接

 

类型

 

l/h

 

rpm

 

m/s

 

kW

 

 

GMS 2000/4

 

700

 

14,000

 

44

 

4

 

DN25/DN15

 

GMS 2000/5

 

3,000

 

10,500

 

44

 

11

 

DN40/DN32

 

GMS 2000/10

 

8,000

 

7,300

 

44

 

22

 

DN50/DN50

 

GMS 2000/20

 

20,000

 

4,200

 

44

 

37

 

DN80/DN65

 

GMS 2000/30

 

40,000

 

2,850

 

44

 

55

 

DN150/DN125

 

GMS 2000/50

 

80,000

 

2,000

 

44

 

110

 

DN200/DN150

 

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。

 

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